Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
Optical and X-Ray Characterization
Optical and X-Ray Characterization
Dieser Kurs ist Teil von Spezialisierung „Semiconductor Characterization“
Dozent: Trevor Thornton
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Stufe Mittel
Empfohlene Erfahrung
4 Stunden zu vervollständigen
Was Sie lernen werden
Describe the use of light to measure the thickness and refractive index of thin transparent films.
Explain how light is absorbed and emitted by semiconductors.
Explain the advantages and limitations of optical and X-ray characterization.
Kompetenzen, die Sie erwerben
- Kategorie: Laboratory Testing
- Kategorie: Analytical Testing
- Kategorie: Materials science
- Kategorie: Laboratory Equipment
- Kategorie: Laboratory Experience
- Kategorie: Semiconductors
- Kategorie: Structural Analysis
- Kategorie: Laboratory Techniques
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5 Aufgaben
Unterrichtet in Englisch
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VS
4.0
Geprüft am 16. Mai 2026
lecture are a bit short and readings are very long
HQ
5.0
Geprüft am 5. Aug. 2026
The course was very useful for me, the instructor explained all things in an easy way to understand!
KN
5.0
Geprüft am 9. Mai 2024
Quick introduction and review of important topics. I wish if more such courses are introduced.
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